Masterarbeit zum Thema: "Optimierung von MEMS Strukturen für Back-End Prozesse"

Kennziffer IMS-2021-19

Am Fraunhofer IMS wird eine neue Technologie entwickelt, die eine Fertigung von MEMS Drucksensoren auf Wafern mit CMOS Schaltkreisen ermöglicht. Dieser Ansatz bietet großes Potential für die Miniaturisierung und Funktionalisierung von modernen Drucksensorsystemen, wie z.B. für medizinische Implantate. Nach erfolgter MEMS-Fertigung auf CMOS Substraten erfolgt die Vereinzelung der Sensoren im Back-End. Für diese Prozesse ist eine geeignete mechanische Stabilität der Sensorelemente eine wichtige Voraussetzung.
Zur Optimierung der MEMS Sensoren sind Schutzstrukturen und stabile Randlager für die Sensorelemente zu entwickeln. Hierzu sollen die bestehenden MEMS-Designs auf Basis von neuen Simulationen weiterentwickelt und anschließend gefertigt werden. Am Fraunhofer IMS stehen verschiedenen Technologieplattformen in unserem industrienahen MEMS-Reinraum mit modernem Maschinenpark offen, die zur Sensorfertigung eingesetzt werden.

Die Durchführung von Back-End Schritten und der Analyse findet anschließend in geeigneten Reinräumen am Fraunhofer IMS statt. Über eine umfangreiche Laboranalyse der Sensoreigenschaften können Sie die Wirkung der Maßnahmen bestimmen. Analyseverfahren und Geräte stehen zur Verfügung und erlauben die optische und elektrische Charakterisierung der Sensoren.


Was Sie mitbringen

• Studium im Bereich Mikrosystemtechnik, Elektrotechnik, Physik, Nanoengineering oder eines anderen technischen/naturwissenschaftlichen Studiengangs
• Sehr gute Studienleistungen
• Erfahrungen in den Bereichen Mikrosystemtechnik und Messtechnik sind von Vorteil
• Ausgeprägte Eigeninitiative und Einsatzbereitschaft
• Eigenständige und zuverlässige Arbeitsweise sowie ein hohes Maß an Kommunikations- und Teamfähigkeit

Das Verfassen der Abschlussarbeit ist in Deutsch oder Englisch möglich.


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Fraunhofer-Institut für Mikroelektronische Schaltungen und Systeme
Duisburg

http://www.ims.fraunhofer.de

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